一個現代的積體電路(IC)含有百萬個以上的獨立元件,而其尺寸通常在數微米, 在此種尺寸上, 並無一合適的機械加工機器可以使用,取而代之的是微電子中使用紫外光的圖案轉換(Patterning)這個過程是使用光學的圖案以及光感應膜來將圖案轉上基板,此種過程稱為光刻微影。本實驗室就是採用上述的光刻微影技術,來作為製作Si晶片上微管道的主要製程技術, 而本實驗的目的就是建立基礎的微製程技術,在矽晶片上製造微管道,並建立相關的實驗量測系統設備,以供日後對微管道流場及熱場之研究。並提供微機電系統熱傳之學理基礎。針對液,氣體環路,目前各有三篇paper已被JMM(IOP) 及 Int’ J. Heat and Mass Transfer 及一篇在德國Colloid and Polymer Science期刊所刊登,請見附件